真空镀膜的分类及特点

蒸发镀

溅射镀

离子镀

低压CVD

等离子体CVD

光CVD

方法

电阻加热

电子束

高频感应

激光

反应

分子束外延

离子束辅助

二极、三极、四极

射频

偏压

对象靶

磁控

离子束

反应

直流二级

空心阴极

活性反应蒸发

射频放电

电弧

溅射

高频感应加热

离子束镀

离子团束镀

电阻加热

高频感应加热

氙灯脉冲加热

热丝

有机金属

超高真空

直流

射频

脉冲

微波

电子回旋

共振

激光

紫外光

镀膜室真空度Pa

10^-2~10^-7

1~10^-2

1~10^-1

10³~10⁴

10^-1~10⁴

1~10²

基板温度℃

常温~500

常温~500

200~600

700~1200

200~600

常温~500

沉积粒子能量eV

10^-1~1

1~10

10~10³

-

-

-

沉积速率μm/min

10^-1~10

10^-2~1

10^-1~10

10^-1~10

10^-1~10

10^-1~10

绕镀性

差

差

良

优

优

良

附着力

弱

中

强

强

强

中